新型光刻技术使用氧气做抑制剂3D打印微型结构（图文教程）

    韩国先进科学技术研究院（KAIST）化学和生物分子工程学系的一个研究团队在Shin-Hyun Kim教授的领导下开发出了一种新型光刻技术，该技术主要通过氧扩散来控制形成功能性形状的微型图案。

    光刻技术也被称作光学光刻或UV光刻，其一些基本原理与摄像也有相似之处，主要都是通过投影曝光形成图案。它其实是一个标准方法，即通过在光阻材料层的曝光将微型图案转印到衬底上，如今这种方法已经在半导体工业中得到广泛使用。

    不过在此之前，这一技术只能用于二维的设计，这是由于曝光区域和顶部区域之间的边界是与光源的方向平行的。

    然而，通过由Kim教授和他的团队在对光刻技术的研究中发现，他们发现，暴露在UV光下的区域氧气浓度会降低，并导致氧气的扩散。通过控制氧气的扩散速度和方向可以操纵其整体成型过程，包括聚合物的形状和大小。

    根据这一研究结果，研究团队发明了一种基于光刻原理的新技术，它能够利用氧的存在制造出微型三维结构。该技术主要利用氧气浓度的差异引起氧气到uv光照射区域内的扩散。最终，通过在这一过程中抑制剂的使用使得能够制造出复杂的微型3D结构。

    由Kim教授和他的团队发明的这项新技术可以用于改进3D聚合物的制造工艺，以前很多人认为它很难用于商业用途。

    “虽然3D打印被认为是一种创新型的制造工艺，但它不能被用于大规模制造微观产品。”金教授说。“这种新型光刻技术将会在学术界和工业级产生广泛的影响，因为现有的，传统的光刻设备可以用于发展更为复杂的微型结构。”